第1474节
只是初步测试，但简单的两个字格外动人心弦。
“可用”。
任何人都知道易科与冰芯如今的处境，也因此，当方卓接到电话，他就知道敢于在这种情况通知给自己的信息必然极其关键，也必然已经有了相当的把握，只是出于谨慎没有打出百分百的包票。
凌晨一点十五分，方卓见到做出可用光刻胶的研发团队负责人柴庆良，听取他对相关情况的汇报。
柴庆良语速不快，重点谈到新的环族结构对聚合物在耐热性、光学性能等方面的影响，以及，三种配方树脂的相互作用。
方卓对研发人员的汇报特点已经颇为习惯，耐心听完这一通讲述，询问道：“这样的光刻胶应用到生产之中，预计刚开始的良率能达到多少？”
“30左右。”柴庆良平静地答道。
这样的良率对于一家晶圆制造企业无疑是不合格，是难以提供竞争力的，但是，这已经解决了从无到有的问题。
在座的人都清楚这种突破所能带来的意义。
不过，作为新阳的掌门人，王福翔听到这里还是多说了两句：“这次的光刻胶继续调整配方成分，提高它对波长光的敏感性，降低线宽粗糙度再提高成像质量，相信能在良率上继续获得提升。”
他扭头看向柴庆良，问道：“对吧，我这样说没错吧？”
柴庆良沉吟片刻，慢吞吞地答道：“理论上是这样，但实际工作上的推进也不一定，反正就是做做看。”
王福翔有些无奈，这位柴工就是这样……
实际上，新阳合肥这边同时进行着12款光刻胶树脂的研发，原本是另一个团队比较有希望，但没想到柴庆良这边先有了突破。
柴庆良这人吧，就是蔫蔫的，给人的感觉是“突破了是不错”“没突破就没突破吧”“也许能提高良率”“也许提不了良率”，怎么着都行，没有一点激情。
但是，如今初步测试的结果已出，他这哪里是蔫，分明是能成大事的稳重，是临危不乱的沉着，是在纷扰中坚守本心的笃定，是在挑战面前从容应对的智慧！
王福翔不好反驳功臣的话，眼睛不自觉看向冰芯的资深副总裁阎宗瑞，想让他谈谈情况。
阎宗瑞还没说话，办公室的门忽然被推开，冰芯总裁邱慈云也是匆匆的到了。
方卓起身欢迎，简单寒暄两句就让他坐在旁边一起听。
“现在这个2-8光刻胶还存在不少优化空间，30的良率肯定是能提高的，方总，因为这个不单是光刻胶的问题，比如，我们可以做光学临近校正opc，做相移掩模ps等优化，这些都可以改善光的传播和相互作用，可以优化图案的分辨率和对比度。”阎宗瑞过去一年多时间就负责这一块，不用多想就侃侃而谈，“只是说，最终良率能提升到什么地步，这就不好保证了，50？60？”
不管60还是50，这和冰芯自身先前的竞争力都天差地别。
邱慈云这时候说了句：“阎总，你就直接说你的结论。”
阎宗瑞略一踌躇，简短的给出代表己方团队的意见：“够用。”
够用！
来自光刻胶研发团队的结论是——可用！
来自冰芯生产线团队的结论是——够用！
就算是良率最终停止在50、60，这也够用了！
方卓听到阎宗瑞斩钉截铁的两个字，缓缓的舒了一口气，又与邱慈云对视一眼，随即看向首功的柴庆良：“柴总，你有什么要求？”
你有什么要求？
这是来自易科掌门人、全球有数富豪、易科系缔造者在今天这个凌晨时分给出的话，意思不言而喻，不管有什么要求，都会尽可能的满足，能力范围内如此，超出能力范围恐怕也能竭力争取。
新阳的掌门人王福翔听到这话就是心中一跳，恨不能代替柴庆良回答。
“嗯……”柴庆良用鼻腔发出思考的声音，半晌之后才答道，“以后提可以吗？我得好好想想。”
方卓笑了出来：“行，随时打我电话。”
刘宗宏听到这话，立即把老板的私人号码和易信都推给这位柴工。
方卓收起笑容，再看向新阳的掌门人王福翔，问道：“王总，你有什么要求？”
王福翔立即答道：“方总，都是为国内行业做事，我能有什么要求，无非就是希望咱们上下游都能多发展些，希望大家不要看别人的脸色，这次新阳侥幸有点成绩，我心里由衷的为易科和冰芯高兴，不管易科还是冰芯都是行业的领军者，只要你们好，咱们行业都能跟着好，我们新阳也就自然而然的好了。”
方卓微微点头，略一沉吟：“好，王总，这次要为你们请功。”
邱慈云平复了心情，对副总裁阎宗瑞说道：“阎总，我们这边要做好配合光刻胶优化的工作，良率每提升一个点都是好的，除此之外，接下来还要为10n的优化做准备。”
包括柴庆良，众人的心里都是一凛，确实，工作还没结束。
方卓再次感谢王福翔与柴庆良，与他们紧紧握手之后亲自送他们出门，等到回到办公室，看到邱总正在大口大口的喝茶。
“可用，够用。”方卓重新落座，双手掩面，声音从指缝里钻出来，“可用，够用，嘿！”
“对易科是够用了，对冰芯还需要很大的优化。”邱慈云用椅背撑住身体，笑道，“但现在是够了，是吧？”
方卓往椅子上一靠，双手用力的在脸上搓动，全身的力气仿佛只够两个字的回答：“够了。”
这是水到渠成的水，迎刃而解的刃！
只要能有产能，还有什么不够的！
办公室里的四个人忽然都不出声，凌晨的寂静就蔓延了进来。
许久之后，方卓撑起来身子，说道：“16n的光刻胶能解决，10n的就能一以贯之了？”
“不错。”邱慈云确认了这一点，“我们是用多重曝光技术，这可以在一定程度上避免大幅调整光刻胶的配方来适应更小的工艺节点。”
旁边的阎宗瑞补充道：“光刻胶在10n还是需要进行一些工作的，因为需要承受额外的曝光和蚀刻，所以要求更高的耐受性和稳定性，而且，为了适应多重曝光更复杂的流程，还需要光刻胶更高的曝光剂量窗口和显影条件，用以保证重复性和良率。”
光刻胶不单单是化学配方的问题，还需要对像底层抗反射涂层、顶层涂层等配套材料进行优化，以及对工艺进行全面的优化。